露光とは? わかりやすく解説

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ろ‐こう〔‐クワウ〕【露光】

読み方:ろこう

[名](スル)

写真撮影焼き付け引き伸ばしのとき、フィルム乾板CCDなどのイメージセンサー印画紙などに光を当てて感光させること。露出

つゆの光。

甲板(デツキ)のに—凝(こお)り」〈独歩・愛弟通信


露光

読み:ろこう
英語:exposure

感光層に光像を照射すること.照度照射時間の積を露光量という.本来は写真用語であるが,電子写真場合には,層表面静電像形成する工程をさす.

露出 (写真)

(露光 から転送)

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2023/04/29 10:16 UTC 版)

写真技術において露出(ろしゅつ、英語: exposure)ないし露光(ろこう)とは、フィルム乾板などの感光材料やCCDCMOSなどの固体撮像素子を、レンズを通したにさらすこと(現在のカメラでは通常シャッターの開閉により、これを行う)。またはカメラのレンズを通過してくる光の総量や、画像そのものの明るさのことをいい、これらはレンズの絞り(F値)と露光時間(シャッター速度)及びフィルム感度の組み合わせによって決まる。


  1. ^ 現在の絞りの刻みは1EVおきとは限らない。
  2. ^ 小林義明『適正露出の考え方』「NCフォトシリーズ6露出を極める」日本カメラ社 35ページ
  3. ^ 鈴木一雄『露出の極意 「スポット測光術」のすべて』日本写真企画。
  4. ^ 谷口泉『デジタル撮影の適正露出と色彩調整』日本カメラ社 30ページ。
  5. ^ 日浦慎作、「2-1. コンピュテーショナルフォトグラフィ 演算を前提とした画像の獲得」 『映像情報メディア学会誌』 63巻 3号 2009年 p.274-278, doi:10.3169/itej.63.274
  6. ^ Raskar, Ramesh, Amit Agrawal, and Jack Tumblin. "Coded exposure photography: motion deblurring using fluttered shutter." ACM Transactions on Graphics (TOG). Vol.25. No.3. ACM, 2006.
  7. ^ 西一樹、「3 符号化露光法と超解像」 『映像情報メディア学会誌』 67巻 8号 2013年 p.655-660, doi:10.3169/itej.67.655
  8. ^ Ramesh Raskar. 「Less is More Coded Computational Photography(符号化された写真からシーン情報を復元する計算機写真術)」 『映像情報メディア学会誌』 62巻 12号 2008年 p.1952-1958, doi:10.3169/itej.62.1952



露光

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2021/04/05 15:25 UTC 版)

複写機」の記事における「露光」の解説

電荷持った感光体表面原稿からの反射光もしくはレーザー光照射する事で静電潜像を作像する。レーザー露光方式ではトナー乗せる部分光を当てる反射光従来形式アナログ機)方式では、トナー乗せたくない部分光を当てる一部機種では逆)。尚、レーザー露光方式の物でもトナー乗せたくない部分光を当てるものもある。デジタル機の露光方式として、レーザ用いるものや、LEDとグラスファイバアレイの集合体などがある。

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露光

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2022/01/04 14:37 UTC 版)

レーザープリンター」の記事における「露光」の解説

レーザー光照射する事で静電潜像を作像する。別の露光方式として、LEDとグラスファイバアレイの集合体などがある。

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露光

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2021/11/21 16:56 UTC 版)

フォトリソグラフィ」の記事における「露光」の解説

レジストに光を照射して反応させる。このとき、回路図形状描いたマスク用い、光を照射する部分制御することで必要な形状レジスト上に描く。露光装置かつてはマスクウェハー密着させ露光する等倍露光であったが、要求されるパターン微細になるとともにマスク作成困難になってきたため、近年では実寸よりも大きく作成したマスクパターンをステッパー呼ばれる装置用いてウェハー上を移動させながら縮小投影露光する手法変わってきた。パターン微細化するほど短波長の光源が必要であり、現在は高圧水銀灯のg線波長 436nm)、i線(波長 365nm)、KrFエキシマレーザー波長 248nm)、ArFエキシマレーザー波長 193nm)などが主流で、次世代光源としてEUV光(波長 13.5nm:EUVリソグラフィ)が開発段階にある。またX線光源用いたり電子線直接レジスト上に描画する方法電子線リソグラフィ)も存在する

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露光

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2022/06/09 01:37 UTC 版)

ダゲレオタイプ」の記事における「露光」の解説

日中屋外での露光時間初期タイプ10 - 20分、改良されたものは最も短いもので数秒程度である。光が当たった部分ヨウ化銀イオン励起状態作ることにより像(潜像)が記録されるこの段階では直接銀板表面見て画像鑑賞することはできない

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