微細加工で使われる一般的なエッチングプロセス
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2022/06/18 15:58 UTC 版)
「エッチング (微細加工)」の記事における「微細加工で使われる一般的なエッチングプロセス」の解説
一般的な微細加工材料のエッチャントエッチングする材料ウェットエッチャントプラズマエッチャントアルミニウム(Al) 80%リン酸(H3PO4) + 5%酢酸 + 5%硝酸 (HNO3) + 10%水(H2O)（35–45 °C） Cl2, CCl4, SiCl4, BCl3 酸化インジウムスズ [ITO] (In2O3:SnO2) 塩酸 (HCl) + 硝酸 (HNO3) + 水 (H2O) (1:0.1:1) （40 °C） クロム (Cr) "クロムエッチ": ヘキサニトラトセリウム(IV)酸アンモニウム ((NH4)2Ce(NO3)6) + 硝酸 (HNO3) 塩酸 (HCl) ガリウムヒ素 (GaAs) 希釈クエン酸 (C6H8O7 : H2O, 1 : 1 ) + 過酸化水素 (H2O2)+ 水 (H2O) Cl2, CCl4, SiCl4, BCl3, CCl2F2 金 (Au) 王水 ヨウ素溶液 モリブデン (Mo) CF4 有機残渣、フォトレジスト ピラニア溶液: 硫酸 (H2SO4) + 過酸化水素 (H2O2) O2 (灰化) プラチナ (Pt) 王水 シリコン (Si) 硝酸 (HNO3) + フッ化水素酸 (HF) 水酸化カリウム (KOH) エチレンジアミンピロカテコール (EDP) 水酸化テトラメチルアンモニウム (TMAH) CF4, SF6, NF3 Cl2, CCl2F2 二酸化ケイ素 (SiO2) フッ化水素酸 (HF) 緩衝酸化物エッチング [BOE]: フッ化アンモニウム (NH4F) とフッ化水素酸 (HF) CF4, SF6, NF3 窒化ケイ素 (Si3N4) 85%リン酸(H3PO4)（180 °C）（SiO2エッチマスクが必要） CF4, SF6, NF3, CHF3 タンタル (Ta) CF4 チタン (Ti) フッ化水素酸(HF) BCl3 窒化チタン (TiN) 硝酸(HNO3) + フッ化水素酸(HF) SC1 バッファードフッ酸(bHF) タングステン (W) 硝酸(HNO3) + フッ化水素酸(HF) 過酸化水素(H2O2) CF4 SF6[要出典] 5軸レーザーエッチング レーザー加工とはレーザー光の直進性・高エネルギー密度・集束性を利用し、各種材料を融解・気化して切断、穴あけ、溶接などを行う加工方法であり、微細加工のデジタル化への移行が日々進んでいく中で、手作業の伝統的な加工方法における限界を打破する技術のひとつです。 環境問題等の観点から、デザイン面での制約がより少なく効率性の高い加工技術のひとつとして日本エッチングではこの先進技術を以前から取り入れております。 デジタル3Dモデルデータの取り込み、グレースケールデータの面貼り込み、様々な形状に追従した形でのテクスチャの貼り込み、正確に定義されたデザインを反映、最終製品化と今までのデザイン定義を根底から覆す新技術です。 従来のケミカルエッチングとの融合（ハイブリッド工法）や、異形材へのシボ加工（人工大理石、セラミックなど）、ケミカルに反応しないような合金金属、超硬などへの加工も可能となっております。 可変パルスレーザー加工により熱変化の小さな加工から高出力加工までありとあらゆるものに対応しています。
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