フォトレジスト
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フォトレジスト（英語：photoresist）とは、フォトリソグラフィにおいて使用される、光や電子線等によって溶解性などの物性が変化する組成物である。物質の表面に塗布され、後に続くエッチングなどの処理から物質表面を保護することから、「レジスト」 (resist) の名がある。しかしながら、現在では、感光性を有し、画像様露光・現像によりパターニングを行って表面に画像層を形成することができる物質であればフォトレジストと呼ばれ、必ずしも保護の働きがあるとは限らない。
- ^ 駒野博司, 「フォトリソグラフィ (1)」『表面技術』 46巻 9号 1995年 p.778-783, doi:10.4139/sfj.46.778
- ^ “サムスン半導体もLGバッテリーも…日本製の素材・装置がなければ生産ストップ”. 朝鮮日報 (2022年2月13日). 2022年2月13日閲覧。
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- 2 フォトレジストの概要
- 3 関連項目
フォトレジスト（パターニング方法による分類）
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「レジスト」の記事における「フォトレジスト（パターニング方法による分類）」の解説
感光性を持ち、フォトリソグラフィ工程で使用されるレジスト。大量生産される製品に使用されるレジストは、ほとんどがフォトレジストである。一般的な使用方法としては、スピンコーターやスリットコーター等で薄膜状に塗布し、光や電子線を部分的に照射して溶解性を変化させ、その後現像によって不要な部分を除去する。製版、プリント基板、半導体ウェハーなどの製造に使用される。
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