無機フォトレジストとは? わかりやすく解説

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無機フォトレジスト

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2018/08/27 09:22 UTC 版)

三硫化二ヒ素」の記事における「無機フォトレジスト」の解説

有機フォトレジスト比べ、2.45という高い屈折率大きなヌープ硬度を持つことから、フォトニック結晶としての用途研究されている。3次元DLW等のレーザーパターニングの技術化学ウェットエッチング技術の進歩によって、3次元ナノ構造製作のためのフォトレジストとして用いることができるようになった三硫化二ヒ素は、1970年代初めから水性エッチング液を用いた分解能フォトレジストとしての用途研究されてきた。このような水性エッチング液は、低アスペクト比2次元構造製造できるようになったが、3次元の高アスペクト比エッチング不可であった。高アスペクト比3次元構造製造には、有機溶媒中で用い特定の有機試薬が必要であった

※この「無機フォトレジスト」の解説は、「三硫化二ヒ素」の解説の一部です。
「無機フォトレジスト」を含む「三硫化二ヒ素」の記事については、「三硫化二ヒ素」の概要を参照ください。

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