無機フォトレジスト
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2018/08/27 09:22 UTC 版)
有機フォトレジストと比べ、2.45という高い屈折率と大きなヌープ硬度を持つことから、フォトニック結晶としての用途が研究されている。3次元DLW等のレーザーパターニングの技術と化学ウェットエッチング技術の進歩によって、3次元ナノ構造製作のためのフォトレジストとして用いることができるようになった。 三硫化二ヒ素は、1970年代初めから、水性エッチング液を用いた高分解能フォトレジストとしての用途が研究されてきた。このような水性エッチング液は、低アスペクト比の2次元構造が製造できるようになったが、3次元の高アスペクト比のエッチングは不可能であった。高アスペクト比3次元構造の製造には、有機溶媒中で用いる特定の有機試薬が必要であった。
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