蒸着とは? わかりやすく解説

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じょう‐ちゃく【蒸着】

読み方:じょうちゃく

[名](スル)真空中金属などを加熱蒸発させ、その蒸気他の物質表面に薄い膜として付着させること。真空蒸着


蒸着

金属または非金属材料高真空中で加熱等により蒸発させて、ガラス水晶板、へき開した結晶などの基板表面薄膜として凝着させること。

蒸着

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2021/10/19 08:06 UTC 版)

蒸着(じょうちゃく、英語:vapor deposition)とは、金属酸化物などを蒸発させて、素材の表面に付着させる表面処理あるいは薄膜を形成する方法の一種。蒸着は、物理蒸着(PVD)と化学蒸着(CVD)に大別される。ここでは主にPVDの一種である真空蒸着を解説する。


  1. ^ 草野英二; 大工原茂樹; 岡田修; 吉野幸夫; 谷典明; 深水克郎; 植木貴久, ed. (2006), 薄膜作製技術, 東京: リアライズ理工センター, p. 89, ISBN 9784898080788 


「蒸着」の続きの解説一覧

蒸着

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2022/05/07 03:01 UTC 版)

フィルム」の記事における「蒸着」の解説

フィルム表面金属層を付着させる加工法としては主に真空蒸着用いられる包装用途において湿度ガスバリア性を向上させるために施すアルミ蒸着の他にもシリカアルミナ,ジルコニア主成分剤やフッ化マグネシウムMgF2)蒸着がある。一般に密着性を向上させるためのアンダーコーティングと、蒸着面保護のためのトップコーティングが併用される。

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「蒸着」を含む「フィルム」の記事については、「フィルム」の概要を参照ください。


蒸着

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2017/11/20 14:10 UTC 版)

集束イオンビーム」の記事における「蒸着」の解説

集束イオンビームによる蒸着には、直接蒸着法集束イオンビームアシスト蒸着法2つがある。直接蒸着法Cu,Al,Auなどの金属を低エネルギーイオンビームにして、試料に蒸着させる蒸着法である。半導体素子金属配線などに応用されている。一方集束イオンビームアシスト蒸着法は、試料表面吸着したガスイオンビームより分解することを利用した一種のCVDである。蒸着される元素イオンビーム種類ではなく導入されるガスの種類によって決まりPt, W, Au, Cなどが一般的である。Gaイオンビーム用いたFIB加工装置には、通常1~5種類程度ガス銃付属しており、加工のみならず蒸着もおこなうことができる。

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