触媒化学気相成長法

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触媒化学気相成長法

出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2021/10/19 08:09 UTC 版)

触媒化学気相成長法（しょくばいかがくきそうせいちょうほう、略称：Cat-CVD、別称：ホットワイヤCVD）は、真空槽内で通電加熱した触媒体（主にタングステンなどの高融点金属）表面において原料ガスを分解し、生成する未結合手をもった分解種（遊離基）を直接もしくは気相中での反応過程を経た後に基板上に薄膜として堆積させる手法。