保護・脱保護とは? わかりやすく解説

保護・脱保護

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2022/05/27 01:59 UTC 版)

9-フルオレニルメチルオキシカルボニル基」の記事における「保護・脱保護」の解説

FmocFmoc試薬としては数種が知られているが、クロロギ酸フルオレニルメチル (Fmoc-Cl) が最もよく用いられる一級または二級アミン対しピリジントリエチルアミンなどの塩基存在下、Fmoc-Cl を作用させることで Fmoc 化できる。アミノ酸などに対して炭酸水素ナトリウム水溶液などを塩基として用いショッテン・バウマン条件簡便である。 脱保護 ピロリジンピペリジンモルホリンなどの二級アミンの、20% DMF 溶液加えるのが標準的な条件である。

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保護・脱保護

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2022/05/27 02:01 UTC 版)

アリルオキシカルボニル基」の記事における「保護・脱保護」の解説

Alloc化 Alloc化にはクロロギ酸アリル (Alloc-Cl) が最もよく用いられる一級または二級アミン対しピリジントリエチルアミンなどの塩基存在下、Alloc-Cl を作用させることで Alloc 化できる。アミノ酸などに対して炭酸水素ナトリウム水溶液などを塩基として用いショッテン・バウマン条件簡便である。 脱保護 触媒量のテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)存在下、過剰量の二級アミンモルホリンなど)または β-ジケトン類をアリル基捕捉剤として加えておくことにより脱保護できる。

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保護・脱保護

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2022/05/27 02:04 UTC 版)

tert-ブチルジメチルシリル基」の記事における「保護・脱保護」の解説

アルコール (ROH) を TBDMS保護して対応するシリルエーテル (RO-TBDMS) とするためには、tert-ブチルジメチルシリルクロリド (TBDMS-Cl) を適切な塩基とともに作用させる1級アルコール、あるいはフェノールに対しては N,N-ジメチルホルムアミド溶液中でイミダゾール用いるのが常法とされるかさ高いアルコールに対しては、tert-ブチルジメチルシリルトリフラート (TBDMS-OTf) を 2,6-ルチジンとともに作用させる。 TBDMS保護されアルコールはほとんどの酸化剤還元剤弱酸塩基多く求核剤耐性を示す。トリメチルシリル基 (TMS基) と比べて安定性高く、それは反応剤の接近がその立体障害により速度論的に抑えられるためである。塩基による加水分解速度TMS基の約 10000分の1 とされている。TBDMSエーテルは強いルイス酸とは反応するフッ化物イオンとの反応性高く、TBDMS基の脱保護もっぱらフッ化物の塩、あるいはフッ化水素付加体用いられる有機溶媒中でフッ化テトラ-n-ブチルアンモニウム (TBAF) を作用させる手法一般的である。 TBDMS基はまた、カルボキシル基保護末端アルキン保護にも用いられる化合物脂溶性高め目的でも用いられる

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保護・脱保護

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2013/12/30 22:15 UTC 版)

テトラヒドロピラニル基」の記事における「保護・脱保護」の解説

アルコールTHP保護するときは、一般に触媒ジヒドロピラン (DHP) を非水条件下で作用させる手法とられる。酸を嫌う基質場合光延反応中性条件用いられる脱保護ときには逆に水の共存下に酸を作用させる水の代わりに大過剰のメタノールエタノール用いてもよい。

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