ゲルマン (化合物) 半導体産業における利用

ゲルマン (化合物)

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2017/12/03 06:25 UTC 版)

半導体産業における利用

ゲルマンは約600 Kでゲルマニウムと水素に分解する。この熱不安定性のため、半導体産業において有機金属気相成長法または化学ビームエピタキシー法によってゲルマニウムをエピタキシャル成長させるために利用される[6]。有機ゲルマニウム前駆体(イソブチルゲルマン、三塩化アルキルゲルマニウム、三塩化ジメチルアミノゲルマニウムなど)は、有機金属気相成長法によるゲルマニウム含有フィルムの蒸着において、ゲルマンより害の少ない代替液体として検討されている[7]

毒性

アルシンスチビン同様に溶血毒であり、動物実験ヘモグロビン尿を起こすため、日本では毒物及び劇物取締法により医薬用外劇物に指定されている。

外部リンク




  1. ^ Kunde, V.; Hanel, R.; Maguire, W.; Gautier, D.; Baluteau, J. P.; Marten, A.; Chedin, A.; Husson, N.; Scott, N. (1982). “The tropospheric gas composition of Jupiter's north equatorial belt /NH3, PH3, CH3D, GeH4, H2O/ and the Jovian D/H isotopic ratio”. Astrophysical J. 263: 443–467. doi:10.1086/160516. 
  2. ^ US Patent 7,087,102 (2006)
  3. ^ Girolami, G. S.; Rauchfuss, T. B. and Angelici, R. J., Synthesis and Technique in Inorganic Chemistry, University Science Books: Mill Valley, CA, 1999.
  4. ^ 米国特許第4668502号
  5. ^ a b Greenwood, Norman N.; Earnshaw, Alan. (1997), Chemistry of the Elements (2 ed.), Oxford: Butterworth-Heinemann, ISBN 0080379419 
  6. ^ Venkatasubramanian, R.; Pickett, R. T.; Timmons, M. L. (1989). “Epitaxy of germanium using germane in the presence of tetramethylgermanium”. Journal of Applied Physics 66 (11): 5662–5664. doi:10.1063/1.343633. 
  7. ^ E. Woelk, D. V. Shenai-Khatkhate, R. L. DiCarlo, Jr., A. Amamchyan, M. B. Power, B. Lamare, G. Beaudoin, I. Sagnes (2006). “Designing Novel Organogermanium MOVPE Precursors for High-purity Germanium Films”. Journal of Crystal Growth 287 (2): 684–687. doi:10.1016/j.jcrysgro.2005.10.094. 


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