半導体産業における利用
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2017/12/03 06:25 UTC 版)
「ゲルマン (化合物)」の記事における「半導体産業における利用」の解説
ゲルマンは約600 Kでゲルマニウムと水素に分解する。この熱不安定性のため、半導体産業において有機金属気相成長法または化学ビームエピタキシー法によってゲルマニウムをエピタキシャル成長させるために利用される。有機ゲルマニウム前駆体（イソブチルゲルマン、三塩化アルキルゲルマニウム、三塩化ジメチルアミノゲルマニウムなど）は、有機金属気相成長法によるゲルマニウム含有フィルムの蒸着において、ゲルマンより害の少ない代替液体として検討されている。
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