ぶつりきそう‐せいちょうほう〔ブツリキサウセイチヤウハフ〕【物理気相成長法】
物理気相成長法
【英】Physical Vapor Deposition, PVD
物理気相成長法とは、物質の表面に金属の薄膜を生成する手法のうち、物理的効果により被膜を生成する手法のことである。
物理気相成長法では、圧力が低い状態である「高真空」の中で、物質を気体のように原子や分子レベルで動ける状態(気相)にする。その中で金属原子同士をぶつけ、目的とする金属を物質の表面に付着させていき、金属の薄膜の層を形成していく。
物理気相成長法は、ICチップへ被膜する場合などによく用いられている。具体的な物理気相成長法の技術としては、スパッタ法(スパッタリング)などを挙げることができる。
物理気相成長
(物理気相成長法 から転送)
出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2021/10/19 08:05 UTC 版)
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物理気相成長(ぶつりきそうせいちょう)または物理蒸着(英語:physical vapor deposition、略称:PVD)は、物質の表面に薄膜を形成する蒸着法のひとつで、気相中で物質の表面に物理的手法により目的とする物質の薄膜を堆積する方法である。切削工具や各種金型への表面処理や、半導体素子の製造工程に於て一般的に使用される。
代表的なPVD手法
- 蒸着
- 抵抗加熱蒸着
- 電子ビーム蒸着
- 分子線エピタキシー法
- イオンプレーティング(イオンめっき)
- イオンビームデポジション
- スパッタリング
切削工具の表面処理に用いられる主なPVD皮膜
- TiN (窒化チタン)
- TiCN (窒化チタンカーバイド)
- TiAlN(窒化チタンアルミ)
- AlCrN(窒化アルミクロム)
板金・樹脂成型金型の表面処理に用いられる主なPVD皮膜
- TiN (窒化チタン)
- TiC (チタンカーバイド)
- TiCN (窒化チタンカーバイド)
- TiAlN(窒化チタンアルミ)
- AlCrN(窒化アルミクロム)
- CrN(窒化クロム)
- WC/C (タングステンカーバイド)
- DLC (ダイヤモンドライクカーボン)
主なPVD処理受託加工メーカー
- オーエスジーコーティングサービス
- 日本エリコンバルザース
- 日本コーティングセンター
- ユケン工業
- トーヨーエイテック
- 日本アイ・ティ・エフ
- ナノコート・ティーエス
- 清水電設工業
- 鋼鈑工業
- カムス
- ビヨンズ
- 日立ツール
- 東研サーモテック
関連項目
- 物理気相成長法のページへのリンク