イオンプレーティング

デジタル大辞泉

イオン‐プレーティング【ion plating】

読み方：いおんぷれーてぃんぐ

物理気相成長法の一。原料をプラズマや真空放電でイオン化または励起状態にして電場によって加速し、負電位にした基板に薄膜を蒸着させる。酸化膜を形成するため通常のめっきが困難なチタンやアルミニウムなどの表面処理に利用される。イオンめっき。

透過電子顕微鏡基本用語集

イオンめっき（イオンプレーティング）

【英】：ion plating

金属をイオン化して基板の固体表面上に薄く付着した金属層を作る手法。基板を陰極、金属蒸発源を陽極として真空中あるいはガス雰囲気中で放電を起こすことにより、金属蒸発原子はイオン化され電界によって加速され基板上に被膜する。

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イオンプレーティング

出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2024/07/19 07:01 UTC 版)

イオンプレーティング（英：Ion Plating）とは、イオン化した金属を被加工物に蒸着させる表面処理のこと。