ぶつりきそうせいちょうほう

デジタル大辞泉

ぶつりきそう‐せいちょうほう〔ブツリキサウセイチヤウハフ〕【物理気相成長法】

読み方：ぶつりきそうせいちょうほう

原料をプラズマやレーザーで加熱して蒸発させ、対象とする基板や金属の表面に、物理的に薄膜を蒸着させる方法。分子線エピタキシー、スパッタリング、イオンプレーティングなどの手法があり、半導体素子の製造、工具や金型の表面処理に利用される。物理蒸着法。PVD（physical vapor deposition）。

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物理気相成長法

読み方：ぶつりきそうせいちょうほう
【英】Physical Vapor Deposition, PVD

物理気相成長法とは、物質の表面に金属の薄膜を生成する手法のうち、物理的効果により被膜を生成する手法のことである。

物理気相成長法では、圧力が低い状態である「高真空」の中で、物質を気体のように原子や分子レベルで動ける状態（気相）にする。その中で金属原子同士をぶつけ、目的とする金属を物質の表面に付着させていき、金属の薄膜の層を形成していく。

物理気相成長法は、ICチップへ被膜する場合などによく用いられている。具体的な物理気相成長法の技術としては、スパッタ法（スパッタリング）などを挙げることができる。

なお、物理気相成長法以外の気相成長法としては、化学反応を利用して被膜の生成を行う化学気相成長法（CVD）がある。

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