気相堆積法
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2021/10/18 12:52 UTC 版)
物理気相成長法（PVD: Physical Vapor Deposition） -原料の気体を、蒸発やスパッタリングなどの物理的な手法で発生させる方法。真空蒸着 -物質を真空中で蒸発させて、基板上で薄膜を成長させる方法。抵抗加熱蒸着 電子ビーム加熱蒸着（英語版） パルスレーザー堆積（PLD）（英語版） 分子線エピタキシー（MBE） イオン/ラジカル蒸着 スパッタリング高エネルギーのイオンや原子をターゲット材料に衝突させることによって、ターゲット材料の表面から原子が叩き出されることを利用する方法。 化学気相成長法（CVD: Chemical Vapor Deposition） -気体の原料を、基板の近傍で、熱やプラズマによって反応させて薄膜を生成する方法。熱CVD 有機金属CVD（MOCVD） プラズマCVD 原子層堆積
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