「気相堆積法」を解説文に含む見出し語の検索結果(1~10/84件中)
読み方:かがくきそうせいちょうほう原料を含む混合ガスを加熱した基板の上に流し、熱分解などの化学反応によって表面に結晶や非晶質の薄膜を蒸着させる方法。半導体素子の製造過程において、絶縁体や金属などの薄膜...
読み方:かがくきそうせいちょうほう原料を含む混合ガスを加熱した基板の上に流し、熱分解などの化学反応によって表面に結晶や非晶質の薄膜を蒸着させる方法。半導体素子の製造過程において、絶縁体や金属などの薄膜...
読み方:かがくきそうせいちょうほう原料を含む混合ガスを加熱した基板の上に流し、熱分解などの化学反応によって表面に結晶や非晶質の薄膜を蒸着させる方法。半導体素子の製造過程において、絶縁体や金属などの薄膜...
出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2021/10/18 12:52 UTC 版)「薄膜」の記事における「気相堆積法」の解説物理気相成長法(PVD: Physical V...
シリコンウェハの表面にフォトレジストを生成するために利用されているスピンコート装置(ローレル・テクノロジー社製)スピンコート(Spin coating)とは平滑な基材を高速回転させる事により遠心力で薄...
シリコンウェハの表面にフォトレジストを生成するために利用されているスピンコート装置(ローレル・テクノロジー社製)スピンコート(Spin coating)とは平滑な基材を高速回転させる事により遠心力で薄...
シリコンウェハの表面にフォトレジストを生成するために利用されているスピンコート装置(ローレル・テクノロジー社製)スピンコート(Spin coating)とは平滑な基材を高速回転させる事により遠心力で薄...
シリコンウェハの表面にフォトレジストを生成するために利用されているスピンコート装置(ローレル・テクノロジー社製)スピンコート(Spin coating)とは平滑な基材を高速回転させる事により遠心力で薄...
ナビゲーションに移動検索に移動この記事は検証可能な参考文献や出典が全く示されていないか、不十分です。出典を追加して記事の信頼性向上にご協力ください。出典検索?: "ツーフローMOCVD"...
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