気相拡散法
出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2020/03/11 05:21 UTC 版)
気相拡散法(ガスディポジション法)不活性ガス中に母材の蒸気を噴出させて液体窒素で冷却された基板に蒸着させて生成する。
※この「気相拡散法」の解説は、「ナノ結晶」の解説の一部です。
「気相拡散法」を含む「ナノ結晶」の記事については、「ナノ結晶」の概要を参照ください。
気相拡散法
出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2022/07/16 17:45 UTC 版)
半導体基板をドーパントを含んだガスの雰囲気中で加熱して単結晶内にドーパントを拡散する。
※この「気相拡散法」の解説は、「拡散型トランジスタ」の解説の一部です。
「気相拡散法」を含む「拡散型トランジスタ」の記事については、「拡散型トランジスタ」の概要を参照ください。
- 気相拡散法のページへのリンク