スパッタイオンポンプ

走査電子顕微鏡基本用語集

スパッタイオンポンプ（イオンポンプ）　SIP: sputter ion pump,ion pump

チタンのゲッター作用を利用した真空ポンプ。チタン板を陰極として放電を起こすと、イオンスパッタにより常に新しい活性面が露出されると同時に、周囲にもチタンがスパッタされる。これらによる吸着作用を利用して排気する。また、不活性ガスもイオン化されて陰極に捕集されるので、排気できるのが特長である。動作圧力は10^-9〜10^-3Pa程度であるが、放電電流から圧力を知ることができる。安定な放電を持続するため電極は強い磁界中に置かれている。

関連する用語

• 真空ポンプ
• イオン化

透過電子顕微鏡基本用語集

スパッタイオンポンプ

【英】：sputter ion pump

油を使用しないドライ真空系ポンプ。電界と磁界を利用して残留ガスを電離し、生じたイオンでチタンカソードを衝撃し、チタン原子をスパッタして、アノードなどの表面に新鮮なゲッタ膜(化学吸着させる膜)を生成させ、活性ガスはゲッタ膜に吸着され、不活性ガスはイオンとしてカソードに吸着される。透過電子顕微鏡の電子銃室や鏡筒の高真空の排気に用いられる。使用圧力範囲は10^-4〜10^-9Pa。

説明に「スパッタイオンポンプ」が含まれている用語

• ドライポンプシステム
• ペニング真空計

イオンポンプ（スパッタイオンポンプ）

【英】：ion pump

油を使用しないドライ真空系ポンプ。電界と磁界を利用して残留ガスを電離し、生じたイオンでチタンカソードを衝撃し、チタン原子をスパッタして、アノードなどの表面に新鮮なゲッタ膜(化学吸着させる膜)を生成させ、活性ガスはゲッタ膜に吸着され、不活性ガスはイオンとしてカソードに吸着される。透過電子顕微鏡の電子銃室や鏡筒の高真空の排気に用いられる。使用圧力範囲は10^-4〜10^-9Pa。

ウィキペディア

イオンポンプ

出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2024/07/19 05:21 UTC 版)

イオンポンプ (ion pump) は、チタンのゲッター作用により排気する真空ポンプである。スパッタイオンポンプ (sputter ion pump) とも。

概要

構造は、ハニカム状のアノード（陽極）アレイと、アノードを挟むように配置されたチタン製のカソード（陰極）からなる。アノード-カソード間に電圧をかけると、両極間に放電が発生する。この時、走行中の電子は磁場の作用によってらせん状の運動をしながら対向する陰極間を往復運動する。この過程で、電子の一部は気体分子と衝突してイオンを生ずる。発生したイオンはチタン製の陰極に衝突し、表面からチタン原子を叩き出す（スパッタ作用）。叩き出されたチタンは陽極や陰極、またはその他のポンプの内壁に清浄なチタンの膜を作る。チタンは化学的に活性な為、水素・酸素・窒素・一酸化炭素もしくはその他の活性ガスを化学的に吸着してしまい、その結果容器内の真空度がよくなる。また、ヘリウム等の不活性気体も、電子との衝突でイオン化して陰極面に捕らえられ、その上にスパッタされたチタン原子が析出するため、陰極の内部に閉じこめられてしまう。

到達真空度

到達真空度は 10⁻⁸ Pa (10⁻¹¹ Torr) 程度である。気体が無くなってくるとアノード-カソード間の電気抵抗が上昇するため、真空度の向上を確認できる。

用途

イオンポンプは気体の種類を選ばずに排気でき、また、構造上機械的可動部分が無いことから、MBE、電子顕微鏡、電子線描画装置などの超高真空装置によく用いられている。

使用方法

陰極をスパッタするという動作原理のため、当然ながらイオンポンプには寿命が存在する。また、作動圧力環境に制限があるため、通常は粗引き用のポンプを併用する。代表的な装置では、超高真空チャンバーにイオンポンプを設置し、試料交換室にターボ分子ポンプとロータリーポンプを設置している。

関連項目

• 真空ポンプ

出典

• 堀越源一『物理工学実験4 真空技術[第3版]』東京大学出版会、1994年。ISBN 978-4-13-063044-3。 

外部リンク

• スパッタイオンポンプ - 真空.com