性能指数
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2023/07/15 09:26 UTC 版)
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性能指数（せいのうしすう、英語: figure of merit、略称: FoM）は、装置・システム・方式の性能を他と比べて特徴づけるのに用いられる量である。
例
- CPUのクロックレート
- 一食あたりカロリー
- 液晶のコントラスト比
- スピースピーカーカーの周波数応答
- 太陽電池の fill factor
- デジタルカメラの イメージセンサーの解像度
- ソナーの検知性能指標。これは50％の検知性能を達成する伝達損失で定義される。
- 電波受信器の雑音指数
- 材料の熱電性能指数Z。その材料による熱電対の効率がこの指数に比例する。
- デジタル-アナログ変換回路の性能指数。 (power dissipation)/(2ENOB × effective bandwidth) [J/Hz] として計算される
- 照明の発光効率
- 会社の利益
- ノートパソコンのバッテリー寿命[注釈 1]
- 太陽炉の熱吸収・熱伝達性能
- アンプ性能指数
変調システム
通信のための変調システムでは、 信号対雑音比 ((SNR)O)と入力信号対雑音比(SNR)C)の比が性能指数。
脚注
注釈
出典
性能指数
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2022/06/18 15:58 UTC 版)
「エッチング (微細加工)」の記事における「性能指数」の解説
エッチングが材料内に空洞を作ることを意図している場合、空洞の深さはエッチング時間と既知のエッチングを速度を使うことでおおよそ制御することができる。ただし多くの場合、エッチングは下にある層もしくはマスキング層にダメージを与えることなく多層構造の最も上の層を完全に取り除く必要がある。これを行うことができるエッチングのシステムは、2つの材料のエッチング速度の比に依存する（選択性）。 いくつかのエッチングはマスキング層をアンダーカットし、傾斜した側壁を持つ空洞を形成する。アンダーカットの距離は「バイアス」と呼ばれる。大きなバイアスを持つエッチャントは全ての方向へ均等に基板を腐食するため等方性と呼ばれる。現代的なプロセスでは、高集積化ならびに微細化の観点から異方性エッチングが非常に好まれる。 選択性 青: 残っている層選択性が不十分なエッチングは最も上の層を取り除くが、下の層の材料も除去してしまう。 高度に選択的なエッチングでは、下の層は無傷のまま残される。 等方性 赤: マスキング層; 黄:取り除かれる層完全に等方性のエッチングは、丸い側壁を作る。 完全に異方性のエッチングは、垂直の側壁を作る。
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