ショットキー障壁とは? わかりやすく解説

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ショットキー‐しょうへき〔‐シヤウヘキ〕【ショットキー障壁】

読み方:しょっときーしょうへき

金属半導体との接触面に生じる、整流作用をもつ界面両者仕事関数の差が障壁の高さに相当する。この整流作用利用しショットキーダイオードつくられた。ショットキーバリア


ショットキー障壁

一般的に金属半導体間の接合により、互い仕事関数の差から生じ障壁GaAs FET では、ゲート電極GaAs 間の接合により生じる。

ショットキー接合

(ショットキー障壁 から転送)

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2023/03/06 21:33 UTC 版)

ショットキー接合(ショットキーせつごう、: Schottky barrier junction)は、整流作用を示す金属-半導体接合のことである。名称は発見者のヴァルター・ショットキーによる。

同様に整流作用を示すPN接合と比較すると、PN接合では電流の輸送が主に少数キャリアで行われるのに対し、ショットキー接合では、多数キャリアで行われるため、高速動作に優れるという利点がある。

PN接合に対してMS接合[注釈 1]と呼ぶこともある。

概要

  • 半導体金属を接合させたとき、半導体部分に、金属の仕事関数と半導体の持つ電子親和力フェルミエネルギー)の差が、障壁として現れる場合がある。これをショットキー障壁と呼ぶ。
  • 障壁の大きさは金属の種類によって異なり、また、半導体の種類や不純物の型、濃度によっても異なる。材料の種類や格子の状態により、ショットキー障壁ではなく、単なる通常の金属的な抵抗を持つ導通状態(オーミック接合オームの法則的、の意)となる場合もある。
  • ショットキー障壁が現れている場合、半導体部分における電位は、金属との接合部から離れるに従い次第に減少し、ある点で熱平衡状態の電位と等しくなる。金属との接合部からこの点までの間が空乏層となり、また、その電位差が順電圧となる。

応用

(ショットキー接合を利用した半導体デバイスは、半導体工学の発展によりPN接合が実用化されるよりも古くから、経験的に発見され実用化されていた)

脚注

注釈

  1. ^ : metal - semiconductor junction




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