走査電子顕微鏡とは? わかりやすく解説

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走査電子顕微鏡(セム)

略語SEM
【英】:scanning electron microscope

バルク試料表面微小電子プローブ走査し表面から放出される二次電子反射電子検出器で受け、その強度プローブ走査同期させて、コンピュータモニタ上に輝点列の像として表示する電子顕微鏡二次電子からバルク試料表面微細な構造形態が、反射電子から組成違い観察できるEDSWDSはじめとする様々な分析機能付加して使われている。SEM分解能決め重要な要素入射ビーム試料上でのプローブサイズである。プローブサイズを小さくするには第一に電子源大きさ小さくすることである。搭載されている電子銃冷陰極電解放出電子銃ショットキー型電子銃,LaB6電子銃タングステン電子銃の順でプローブサイズは大きくなる第二対物レンズタイプによって絞れビームサイズが決まる。対物レンズには1)アウトレンズ、2)シュノーケルレンズ、3)インレンズがある。アウトレンズ型では大きな試料傾斜しても像が得られるように、試料対物レンズ下方に置く。試料対す制限がゆるい代わりにレンズ焦点距離長くなり小さビーム得られにくい。インレンズ型ではTEMのように対物レンズ中に試料挿入する焦点距離短くでき小さなプローブ得られる。ただし、試料の大きさは数mm制限されるシュノーケル型(潜水用具に形が似ていることによる命名)は前二者中間的存在で、試料レンズの下に置かれ比較小さプローブ比較大き試料扱えるように設計されている。低い加速電圧では色収差効果により分解能は下がる。分解能加速電圧20〜30kVで定義されている。分解能具体数値は,超高分解能型で約1nm汎用型で10nm程度CsコレクタCcコレクタ使用する入射ビーム微小化が可能であるが、取り込み角大きくなるために焦点深度浅くなりすぎる欠点がある。入射電子加速電圧下げると電子進入深さ減り反射電子によって生成される二次電子空間的な広がりが減るために像のコントラスト向上する。低加速利点バックグラウンド減少のほかに帯電減少試料損傷減少がある。SEMでは帯電が像の質を落とす。入射電子量が流出電子量を上回る帯電起き、像が乱れ異常なコントラスト形成される。非伝導性試料場合には,帯電防止のために貴金属Al,Cのコ−ティングが行われる。低真空SEMではコーティングなしに非伝導性試料観察できる場合もある。

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走査電子顕微鏡(セム)

略語SEM
【英】:scanning electron microscope

バルク試料表面微小電子プローブ走査し表面から放出される二次電子反射電子検出器で受け、その強度プローブ走査同期させて、コンピュータモニタ上に輝点列の像として表示する電子顕微鏡二次電子からバルク試料表面微細な構造形態が、反射電子から組成違い観察できるEDSWDSはじめとする様々な分析機能付加して使われている。SEM分解能決め重要な要素入射ビーム試料上でのプローブサイズである。プローブサイズを小さくするには第一に電子源大きさ小さくすることである。搭載されている電子銃冷陰極電解放出電子銃ショットキー型電子銃,LaB6電子銃タングステン電子銃の順でプローブサイズは大きくなる第二対物レンズタイプによって絞れビームサイズが決まる。対物レンズには1)アウトレンズ、2)シュノーケルレンズ、3)インレンズがある。アウトレンズ型では大きな試料傾斜しても像が得られるように、試料対物レンズ下方に置く。試料対す制限がゆるい代わりにレンズ焦点距離長くなり小さビーム得られにくい。インレンズ型ではTEMのように対物レンズ中に試料挿入する焦点距離短くでき小さなプローブ得られる。ただし、試料の大きさは数mm制限されるシュノーケル型(潜水用具に形が似ていることによる命名)は前二者中間的存在で、試料レンズの下に置かれ比較小さプローブ比較大き試料扱えるように設計されている。低い加速電圧では色収差効果により分解能は下がる。分解能加速電圧20〜30kVで定義されている。分解能具体数値は,超高分解能型で約1nm汎用型で10nm程度CsコレクタCcコレクタ使用する入射ビーム微小化が可能であるが、取り込み角大きくなるために焦点深度浅くなりすぎる欠点がある。入射電子加速電圧下げると電子進入深さ減り反射電子によって生成される二次電子空間的な広がりが減るために像のコントラスト向上する。低加速利点バックグラウンド減少のほかに帯電減少試料損傷減少がある。SEMでは帯電が像の質を落とす。入射電子量が流出電子量を上回る帯電起き、像が乱れ異常なコントラスト形成される。非伝導性試料場合には,帯電防止のために貴金属Al,Cのコ−ティングが行われる。低真空SEMではコーティングなしに非伝導性試料観察できる場合もある。

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