ワット浴とは? わかりやすく解説

ワット浴

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2021/03/30 08:00 UTC 版)

電解ニッケルめっき」の記事における「ワット浴」の解説

ワット浴とは硫酸ニッケル塩化ニッケルホウ酸主成分とするもっとも実用的有名なニッケルめっき浴である。1915年に O.P.Watts により開発され開発者の名に因んでこの名が付けられた。ワット浴からの析出皮膜素地との密着性がよく、半光沢耐食性がある。このため下地めっきとして用いられることが多い。鏡面光沢皮膜作成するために、以前バフ研磨後にクロムめっきが行われていたが、光沢添加剤開発されている現在ではその必要はない。以下に代表的な光沢添加剤を示す。 一次光沢皮膜結晶微細化することにより光沢付与する働きをする。 芳香族スルホン酸類(ベンゼンスルホン酸 etc.芳香族スルホンアミド類(p-トルエンスルホンアミド etc.芳香族スルホンイミド類(サッカリン etc.二次光沢一次光沢剤では得られない小さな傷を埋め働き、つまりレベリング効果付与する働きをする。 アルデヒド類(ホルムアルデヒド etc.アリルビニル化合物(アリルスルホン酸 etc.アセチレン化合物(2-ブチン-1,4-ジオール etc.ニトリル類(エチルシアンヒドリン etc.一次光沢剤は組成中に硫黄含んでおり、ニッケルとともに共析する。皮膜中の硫黄量が増加すると、電気化学的電位は卑となり、腐食しやすくなる

※この「ワット浴」の解説は、「電解ニッケルめっき」の解説の一部です。
「ワット浴」を含む「電解ニッケルめっき」の記事については、「電解ニッケルめっき」の概要を参照ください。

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