初期のデバイスとは? わかりやすく解説

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初期のデバイス

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2022/01/04 05:09 UTC 版)

VCSEL」の記事における「初期のデバイス」の解説

最初の段階では、この新しデバイス実現するために克服しなければならない多く技術的課題があったとされる主な課題は、比較小さ光学利得全体的な反射鏡品質、および効率的な電流注入であった最初デバイスは、右図に示すような活性領域にGalnAsP-InP材料使用して1979年実現された。VCSEL1300ナノメートル波長動作しデバイス概略断面図を示す。GaInAsPを活性層とする二重ヘテロ構造使用したこのVCSELは、InP基板上に成長させている。円形電極から電流注入することで発光し基板の上下に金属反射板形成して共振器形成するパルス電流駆動され液体窒素使用して77 Kに冷却された。800 mAレーザー発振した。スペクトル取得することが可能であり、レーザー発振を示すほどに狭かった初期の試みで、しきい値は非常に高く通常のレーザー20倍以上であった。

※この「初期のデバイス」の解説は、「VCSEL」の解説の一部です。
「初期のデバイス」を含む「VCSEL」の記事については、「VCSEL」の概要を参照ください。

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