乾式めっき

機械加工技術用語集

乾式めっき

表面処理の中でめっきとは、金属や樹脂の材料表面に他の金属による生成物を生じさせることであるが、一般に良く用いられる電気めっきが水溶液（めっき浴）中で行われるに対して、蒸着やスパッタリングなど気体中もしくは真空中にて材料表面に金属膜を生成する方法を乾式めっきと呼ぶ。
　 乾式めっきには大きく分けて物理蒸着（ＰＶＤ）と化学蒸着（ＣＶＤ）の二種類があり、どちらも比較的新しい金属膜生成方法として開発されている。
　 いずれの方法も、金属をガス化させて処理物表面に皮膜を生成するため、湿式めっきに比べ装置は大がかりなものが必要とされる。
　 これとは別に、表面膜生成を気体中で行うことから、溶射を乾式めっきに含める場合もある。

乾式めっきの種類	特徴	用途例
PVD	減圧された蒸着釜内で、金属を加熱して気化させ、処理物表面に吸着して被膜を生成する。	工具へのTiコーティングによる硬質膜生成。CDなど非金属材料への精密薄膜生成。
CVD	複数のガスによる化学的反応を利用し、処理物に被膜を生成する。反応ガスの組合せにより多様な被膜が得られる。	半導体製造、硬質膜生成。

※本用語集は、索引元の東大阪市製造業支援サイト「東大阪市技術交流プラザ」において、平成１６年度委託事業で構築したコンテンツです。