表面分析装置
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2017/09/09 08:34 UTC 版)
表面分析装置で電子やその他の粒子（X線など）を利用した分析装置では大気分子による影響を排除するため真空中で行う物が多い。また、被測定物の表面の不純物や汚染物の除去のためにも真空にすることで排除することができるようになる。 電子検出形表面分析装置 - SEM,TEM,LEED,EELS,AES,XPS イオン検出形表面分析装置 - GDMS,RBS,SIMS X線検出形表面分析装置 - EPMA,XRD,PIXF,XRF,EXAFS 光検出形表面分析装置 - CL,PL 真空形走査プローブ顕微鏡 - STM,AFM
※この「表面分析装置」の解説は、「真空装置」の解説の一部です。
「表面分析装置」を含む「真空装置」の記事については、「真空装置」の概要を参照ください。
ウィキペディア小見出し辞書の「表面分析装置」の項目はプログラムで機械的に意味や本文を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。
お問い合わせ。
- 表面分析装置のページへのリンク
