キャリア・エンベロープオフセット測定

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キャリア・エンベロープオフセット測定

出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2021/03/25 09:42 UTC 版)

「周波数コム」の記事における「キャリア・エンベロープオフセット測定」の解説

右図に光学位相とエンベロープ（包絡線）の最大点とのオフセットが増加していく様子を示す。各スペクトル線は繰り返し率の高調波からキャリア・エンベロープオフセット周波数分ずれる。キャリア・エンベロープオフセット周波数はキャリア（搬送波）周波数のピークがパルスエンベロープのピークからパルス毎にみてずれていく率である。 キャリア・エンベロープオフセット周波数の計測は通常自己参照技術、すなわちある部分のスペクトルの位相とその高調波の位相とを比較することにより行われる。いくつか別のアプローチの可能性も1999年に提案されている。非線形光学過程がひとつしか必要でない最も単純な2つのアプローチを下に説明する。 'f − 2f ' 技術では、広帯域スペクトルの低エネルギー光側の周波数が非線形結晶中における第二次高調波発生により二倍となり、スペクトルの高エネルギー側との間にヘテロダインうなりが生じる。このうなり信号はフォトダイオードにより検知可能で、差周波数成分、すなわちキャリア・エンベロープオフセット周波数成分を含む。 その他にも、差周波数発生を利用することもできる。広帯域化されたスペクトルの両端の光から、非線形結晶内で差周波数発生を起こさせ、その乗算混合光とオリジナル光と同じ波長の光との間のヘテロダインうなりを計測する。このうなり周波数はこのうなり信号はフォトダイオードにより検知可能で、キャリア・エンベロープオフセット周波数に等しい。 直接測定されるのは位相であって周波数ではないため、周波数をゼロにあわせてさらに位相をロックすることが可能であるが、レーザーの強度とこの検知器があまり安定ではないのと、スペクトル全体が位相ソース内でうなるため、繰り返し率の分数で位相をロックする必要がある。