製膜技術
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2022/04/01 09:26 UTC 版)
「有機エレクトロルミネッセンス」の記事における「製膜技術」の解説
真空蒸着法 真空蒸着法は、主に低分子化合物を材料とする有機EL素子の薄膜を製造する際に用いる技術である。真空のチャンバー内で、原料化合物を加熱し蒸発させる。すると真空チャンバー内に置かれた基板の上に、化合物が薄く（数nm-数百nm）蒸着される。赤、緑、青と塗り分ける際はスリットを用いる。前節の通りスリットを用いる製造法では製造基板の大型化は困難であるが現在ほとんどの有機EL商品が真空蒸着法で製造されている。 印刷技術法 インクジェット技術などの印刷技術を利用し、インク状にした有機EL材料を基板上で薄膜にし素子を作成する技術。大型ディスプレイの製造に有用であるが前述のとおり高分子材料の開発が難航し、中型の量産ラインが2019年11月にようやく稼働したばかりである。
※この「製膜技術」の解説は、「有機エレクトロルミネッセンス」の解説の一部です。
「製膜技術」を含む「有機エレクトロルミネッセンス」の記事については、「有機エレクトロルミネッセンス」の概要を参照ください。
ウィキペディア小見出し辞書の「製膜技術」の項目はプログラムで機械的に意味や本文を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。
お問い合わせ。
- 製膜技術のページへのリンク
