真空蒸着法
出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2022/04/01 09:26 UTC 版)
「有機エレクトロルミネッセンス」の記事における「真空蒸着法」の解説
真空蒸着法は、主に低分子化合物を材料とする有機EL素子の薄膜を製造する際に用いる技術である。真空のチャンバー内で、原料化合物を加熱し蒸発させる。すると真空チャンバー内に置かれた基板の上に、化合物が薄く(数nm-数百nm)蒸着される。赤、緑、青と塗り分ける際はスリットを用いる。前節の通りスリットを用いる製造法では製造基板の大型化は困難であるが現在ほとんどの有機EL商品が真空蒸着法で製造されている。
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