出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2017/09/09 08:34 UTC 版)
真空薄膜形成・加工装置は真空中での性質や反応を利用した薄膜の形成およびその薄膜の加工を行う装置である。光学レンズやガラスへの薄膜からシリコンウェハーへの薄膜形成・加工、他MEMSや太陽電池の形成、FPDの製造など現在最も多く使用される真空装置である。 真空蒸着装置 スパッタリング装置 ドライエッチング装置 アッシング装置 CVD装置 イオン注入装置
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