クリーンルーム技術
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2021/10/23 05:47 UTC 版)
「東北大学電気通信研究所」の記事における「クリーンルーム技術」の解説
半導体素子の製造には生産施設として電子工業用途のクリーンルームが必要であるが、1980年代半ばまでクリーンルーム設備とは製品に付着すると異物となる空気中の粒子数が制限されているに過ぎなかった。 それに対して本研究所では、製造の結果に影響を与えるすべてのパラメータを常時所定の値に制御すれば製造歩留まりを管理できるとの着想の下、建屋の壁材、クリーンルーム設備に付随する高純度ガス供給系、高純度薬品供給系、超純水供給系設備から空調設備に至るまで新規に部品、材料、表面処理、施工技術を開発した。 本研究所附属超微細電子回路実験施設（スーパークリーンルーム）（1986年）はその集大成であり、当時破格のクラス0.6のクリーン度を記録した。
※この「クリーンルーム技術」の解説は、「東北大学電気通信研究所」の解説の一部です。
「クリーンルーム技術」を含む「東北大学電気通信研究所」の記事については、「東北大学電気通信研究所」の概要を参照ください。
ウィキペディア小見出し辞書の「クリーンルーム技術」の項目はプログラムで機械的に意味や本文を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。
お問い合わせ。
- クリーンルーム技術のページへのリンク
