VAD法(Vapor phase axial deposition method、気相軸付け法)
出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2022/06/06 00:42 UTC 版)
「光ファイバー」の記事における「VAD法(Vapor phase axial deposition method、気相軸付け法)」の解説
水素と酸素の混合気体の火炎中で、高純度のSiCl4や屈折率に変化を持たせるGeCl4などを燃焼させることにより、不純物の少ないガラスを精製し、種となる棒の上に積もらせ、棒を移動させることにより長くしていく方法である。内周部と外周部で添加物の種類や濃度を変えることによりGI型のコアの形成やコアとクラッドの同時形成ができる。大型の母材を精製することができるため、低コストで光ファイバー芯線を製造することができる。
※この「VAD法(Vapor phase axial deposition method、気相軸付け法)」の解説は、「光ファイバー」の解説の一部です。
「VAD法(Vapor phase axial deposition method、気相軸付け法)」を含む「光ファイバー」の記事については、「光ファイバー」の概要を参照ください。
Weblioに収録されているすべての辞書からVAD法を検索する場合は、下記のリンクをクリックしてください。
全ての辞書からVAD法 を検索
- VAD法のページへのリンク