半導体の物性・特性の測定手段とは? わかりやすく解説

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半導体の物性・特性の測定手段

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2018/02/07 15:39 UTC 版)

半導体工学」の記事における「半導体の物性・特性の測定手段」の解説

半導体の示す様々な物性は、研究開発製造時の特性評価などにも利用されるほか、多く半導体用途にも深く関係する電気伝導度 ホール効果 PN接合ショットキー接合特性電流-電圧特性空乏層容量ゼーベック効果ペルティエ効果光起電力効果エレクトロルミネセンス 組成不純物EDXEPMASIMSICP 構造光学顕微鏡XRDRBSラマン効果SEMTEMAFMXRFSPMSCM バンド構造など:光電効果光電子分光逆光電子分光DLTSフォトルミネセンス

※この「半導体の物性・特性の測定手段」の解説は、「半導体工学」の解説の一部です。
「半導体の物性・特性の測定手段」を含む「半導体工学」の記事については、「半導体工学」の概要を参照ください。

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