半導体のキャリア密度とは? わかりやすく解説

Weblio 辞書 > 辞書・百科事典 > ウィキペディア小見出し辞書 > 半導体のキャリア密度の意味・解説 

半導体のキャリア密度

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2020/02/02 14:23 UTC 版)

有効状態密度」の記事における「半導体のキャリア密度」の解説

伝導帯 E C {\displaystyle E_{C}} の電子密度 n {\displaystyle n} と価電子帯 E V {\displaystyle E_{V}} の正孔密度 p {\displaystyle p} は次のように与えられる。 n = ∫ E CD C ( E ) f ( E ) d E {\displaystyle n=\int _{E_{C}}^{\infty }D_{C}(E)f(E)dE} p = ∫ − ∞ E V D V ( E ) { 1 − f ( E ) } d E {\displaystyle p=\int _{-\infty }^{E_{V}}D_{V}(E)\{1-f(E)\}dE} ここで D C ( E ) {\displaystyle D_{C}(E)} は伝導帯状態密度D V ( E ) {\displaystyle D_{V}(E)} は価電子帯状態密度、 f ( E ) {\displaystyle f(E)} はフェルミ分布である。伝導帯電子価電子帯正孔状態密度は、自由電子状態密度質量状態密度有効質量置き換えるだけでよい。 D C ( E ) = 1 2 π 2 ( 2 m e ∗ ℏ 2 ) 3 / 2 EE C {\displaystyle D_{C}(E)={\frac {1}{2\pi ^{2}}}\left({\frac {2m_{e}^{*}}{\hbar ^{2}}}\right)^{3/2}{\sqrt {E-E_{C}}}} D V ( E ) = 1 2 π 2 ( 2 m h ∗ ℏ 2 ) 3 / 2 E V − E {\displaystyle D_{V}(E)={\frac {1}{2\pi ^{2}}}\left({\frac {2m_{h}^{*}}{\hbar ^{2}}}\right)^{3/2}{\sqrt {E_{V}-E}}} ここで m e ∗ {\displaystyle m_{e}^{*}} は電子状態密度有効質量、 m h ∗ {\displaystyle m_{h}^{*}} は正孔状態密度有効質量である。また温度について次式を仮定すると、フェルミ分布ボルツマン分布近似でき、非縮退半導体となる。 E CE F > 3 k T {\displaystyle E_{C}-E_{F}>3kT} E FE V > 3 k T {\displaystyle E_{F}-E_{V}>3kT} ただし E F {\displaystyle E_{F}} はフェルミ準位である。これら結果電子密度正孔密度次のように与えられるn = N C exp ⁡ ( E FE C k T ) {\displaystyle n=N_{C}\exp \left({\frac {E_{F}-E_{C}}{kT}}\right)} p = N V exp ⁡ ( E VE F k T ) {\displaystyle p=N_{V}\exp \left({\frac {E_{V}-E_{F}}{kT}}\right)} N C = 2 ( m e ∗ k T 2 π ℏ 2 ) 3 / 2 {\displaystyle N_{C}=2\left({\frac {m_{e}^{*}kT}{2\pi \hbar ^{2}}}\right)^{3/2}} N V = 2 ( m h ∗ k T 2 π ℏ 2 ) 3 / 2 {\displaystyle N_{V}=2\left({\frac {m_{h}^{*}kT}{2\pi \hbar ^{2}}}\right)^{3/2}} ここで N C {\displaystyle N_{C}} は伝導帯有効状態密度N V {\displaystyle N_{V}} は価電子帯有効状態密度呼ばれる。また真性半導体フェルミ準位E i {\displaystyle E_{i}} 、真性キャリア密度n i {\displaystyle n_{i}} とすると、有効状態密度次のように表せる。 N C = n i exp ⁡ ( E CE i k T ) {\displaystyle N_{C}=n_{i}\exp \left({\frac {E_{C}-E_{i}}{kT}}\right)} N V = n i exp ⁡ ( E iE V k T ) {\displaystyle N_{V}=n_{i}\exp \left({\frac {E_{i}-E_{V}}{kT}}\right)} よって伝導帯電子密度価電子帯正孔密度次のように書ける。 n = n i exp ⁡ ( E FE i k T ) {\displaystyle n=n_{i}\exp \left({\frac {E_{F}-E_{i}}{kT}}\right)} p = n i exp ⁡ ( E iE F k T ) {\displaystyle p=n_{i}\exp \left({\frac {E_{i}-E_{F}}{kT}}\right)} これより以下の関係が非縮退半導体について成り立つ。 n p = n i 2 {\displaystyle np=n_{i}^{2}}

※この「半導体のキャリア密度」の解説は、「有効状態密度」の解説の一部です。
「半導体のキャリア密度」を含む「有効状態密度」の記事については、「有効状態密度」の概要を参照ください。

ウィキペディア小見出し辞書の「半導体のキャリア密度」の項目はプログラムで機械的に意味や本文を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。 お問い合わせ



英和和英テキスト翻訳>> Weblio翻訳
英語⇒日本語日本語⇒英語
  

辞書ショートカット

すべての辞書の索引

「半導体のキャリア密度」の関連用語

半導体のキャリア密度のお隣キーワード
検索ランキング

   

英語⇒日本語
日本語⇒英語
   



半導体のキャリア密度のページの著作権
Weblio 辞書 情報提供元は 参加元一覧 にて確認できます。

   
ウィキペディアウィキペディア
Text is available under GNU Free Documentation License (GFDL).
Weblio辞書に掲載されている「ウィキペディア小見出し辞書」の記事は、Wikipediaの有効状態密度 (改訂履歴)の記事を複製、再配布したものにあたり、GNU Free Documentation Licenseというライセンスの下で提供されています。

©2024 GRAS Group, Inc.RSS