二次非線形性とは? わかりやすく解説

二次非線形性

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2021/09/13 15:06 UTC 版)

シリコンフォトニクス」の記事における「二次非線形性」の解説

二次非線形性は、結晶構造中心対称性のためバルクシリコンには存在しない。しかし、ゆがみを加えることで、シリコン反転対称性破壊されることがある。これは、例えば薄いシリコン膜上に窒化シリコン層を堆積させることで得られる二次非線形現象は、光変調自発的パラメトリック下方変換パラメトリック増幅、超高速光信号処理、中赤外発生などに活用できる。しかし、効果的な非線形変換は、関与する光波間の位相整合を必要とする。ゆがみシリコンに基づく2次非線形導波路分散工学により位相整合達成することができる。しかし、これまでのところ実験的実証位相整合ていない設計のみに基づいている。高い非線形有機クラッディング周期的にゆがんだシリコン導波路被覆されたシリコンダブルスロット導波路においても位相整合得られることが示されている。

※この「二次非線形性」の解説は、「シリコンフォトニクス」の解説の一部です。
「二次非線形性」を含む「シリコンフォトニクス」の記事については、「シリコンフォトニクス」の概要を参照ください。

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