主な研究設備とは? わかりやすく解説

主な研究設備

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2021/09/12 23:09 UTC 版)

大阪大学レーザー科学研究所」の記事における「主な研究設備」の解説

激光XII号 プラズマ実験用大型ガラスレーザーシステム。2つ真空チャンバー有し12本のレーザービーム1日あたり3 - 4ショットターゲット照射することができる。XII号は12代目ではなく12本のレーザー使用することを意味し、激光というネーミング初代所長によって決定された。1億度を超える高温プラズマ生成固体密度600倍を超える高密圧縮達成などの成果上げたEUV Database レーザー装置 極端紫外線 (EUV) を発生させる装置レーザーによるEUV発生関しその理論・シミュレーションデータベースを得るために作られた。レーザー光発振増幅するレーザー部」(EUVデータベースレーザー装置)レーザー光伝送する伝送部」、レーザー真空チャンバー内に設置した物質照射しEUV光に変換するチャンバー部」で構成されるLFEXペタワットレーザー装置 チャープパルス増幅圧縮原理用いた高速点火用ペタワットガラスレーザーシステム。大学の施設としては世界的に類を見ない装置である。 スーパーコンピュータ NECSXシリーズ研究所基幹コンピュータシステム

※この「主な研究設備」の解説は、「大阪大学レーザー科学研究所」の解説の一部です。
「主な研究設備」を含む「大阪大学レーザー科学研究所」の記事については、「大阪大学レーザー科学研究所」の概要を参照ください。

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