遷移金属錯体触媒

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遷移金属錯体触媒

出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2011/11/08 04:57 UTC 版)

「不斉触媒」の記事における「遷移金属錯体触媒」の解説

遷移金属錯体を触媒として用いる方法である。キラルな金属錯体はキラルな配位子と金属の塩から合成することが可能であり、この錯体を用いて、一方のエナンチオマーを合成することができる。特に、不斉還元（水素化）や不斉酸化を行う反応が良く知られている。この手法の先駆者としてウィリアム・ノールズは2001年にバリー・シャープレス、野依良治らと共にノーベル化学賞を受賞した。 ウィリアム・ノールズは還元反応の触媒であるウィルキンソン錯体に用いられていたアキラルな（キラルではない）トリフェニルホスフィン配位子をキラルなホスフィンに置き換えることで、均一系で扱える不斉触媒を初めて合成した。この手法は工業的なL-DOPAの合成の一段階目の還元反応に用いられた。 遷移金属錯体触媒を用いた反応の例を挙げる。 BINAPはキラルなホスフィンであり、ルテニウムやロジウムとの錯体がアルケンの不斉水素化反応に用いられる（野依不斉水素化反応）。この手法は野依良治と高砂香料工業により工業的なL-メントールの不斉合成まで展開された。野依のノーベル化学賞受賞はこの反応系を発見、発展させた功績による。 不斉酸化の例としてバリー・シャープレス、香月勗らにより開発されたアリルアルコールのジヒドロキシ化およびエポキシ化反応がある。この方法は香月・シャープレス酸化として知られ、シャープレスのノーベル化学賞受賞はこの功績による。香月らはその後サレン錯体を用いた不斉酸化を展開させた。