集束イオンビーム装置 FIB system,focused ion beam system
- 集束イオンビームを利用して試料を加工したり、観察する装置。ガリウムを使った液体金属イオン源から放出されたイオンビームをレンズ系で縮小し、集束イオンビームを作製する。基本的な構造はSEMと似ているが、イオン源はプラスの高電圧に保たれており、数keV〜30keVのエネルギーを持ったイオンビームが試料に照射される。イオンは磁界の作用を受けにくいので、静電レンズが使われており、イオンビームの走査やブランキングも静電偏向板で行われる。二次電子検出器が備えられており、イオンで励起された二次電子を信号とした走査イオン像（SIM像）を得ることができる。イオンビーム径は最小10nm程度であるが、SIM像を観察しながら、100nm程度の位置精度で加工を行うことができる。化合物ガスの導入口を備え、イオンビームとの反応による選択的な成膜（デポ）を可能にしている。
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