現像・リンス
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2021/11/21 16:56 UTC 版)
露光したウェハーを現像液に浸し、余分な部分のレジストを除去する。この過程ではじめて回路図のパターンがウェハー上に現れる。現像液はレジストを溶解する薬液が使用される。用いられる薬液には、レジストを溶解する有機溶剤の場合と、有機または無機アルカリの場合がある。現在の半導体用フォトリソグラフィでは、有機アルカリである水酸化テトラメチルアンモニウム (TMAH: tetra-methyl-ammonium-hydroxyde）の2.38 wt%水溶液が主流となっている。これは、水酸化カリウム(KOH)などの無機アルカリでは金属イオンの工程への混入を避けられないためである。リンス液（主に超純水）で数回すすぎ、不要部分を完全に除去する。
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