孔拡散（あなかくさん）技術
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2022/03/10 09:36 UTC 版)
「セパシグマ」の記事における「孔拡散（あなかくさん）技術」の解説
同社は孔拡散技術に最も力を注いでいる。孔拡散（Pore Diffusion, PD）とは、粒子の拡散力（ブラウン運動）を最大限活用した省エネルギー型分離技術である。分離対象粒子の5倍以上の孔径を有する膜を積層し、かつ拡散力を最大限活用できる低圧力帯で加圧して粒子を分離する。粒子の孔での拡散速度は、溶解拡散と比較して約1万倍の速度を示すことが確認されている。従来の高圧ろ過と異なり、目詰まりが極めて起こりにくいことが最大の特徴である。また、物質の構造、例えば分子鎖を破壊しにくいことも特徴の一つである。しかし膜の孔径と膜厚をナノレベル（10nm～100nm）で制御する必要があり、現在でも一般的には次世代の膜分離技術と捉えられている。
※この「孔拡散（あなかくさん）技術」の解説は、「セパシグマ」の解説の一部です。
「孔拡散（あなかくさん）技術」を含む「セパシグマ」の記事については、「セパシグマ」の概要を参照ください。
ウィキペディア小見出し辞書の「孔拡散技術」の項目はプログラムで機械的に意味や本文を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。
お問い合わせ。
- 孔拡散技術のページへのリンク
