被覆空間 被覆空間の概要

被覆空間

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2024/04/10 23:56 UTC 版)

被覆写像 p : Y → X によって底空間 X の開集合 U は被覆空間 Y の同相な開集合 S1, S2, S3, … によって「均一に被覆」されている。

被覆空間はホモトピー論調和解析リーマン幾何学微分幾何学で重要な役割を果たす。たとえば、リーマン幾何学では、分岐は、被覆写像の考え方の一般化である。また、被覆写像はホモトピー群、特に基本群の研究とも深く関係する: X が十分によい位相空間であれば、X の被覆の同値類の集合と 基本群 π1(X) の共役な部分群の類全体との間に全単射が存在する(被覆の分類定理)[1]


  1. ^ Bredon 1993, Theorem 8.1.
  2. ^ a b c Munkres 2000, p. 336.
  3. ^ Lickorish 1997, Definition 7.1.
  4. ^ Bredon 1993, Definition 3.1.
  5. ^ Sunada T. (2012), Topological Crystallography ---With a View Towards Discrete Geometric Analysis---", Surveys and Tutorials in the Applied Mathematical Sciences, Vol. 6, Springer
  6. ^ Munkres 2000, p. 338.
  7. ^ Munkres 2000, p. 339, Theorem 53.3.
  8. ^ Bredon 1993, Definition 6.1.





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