自己組織化リソグラフィ
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2019/07/19 03:46 UTC 版)
自己組織化リソグラフィ（じこそしきかリソグラフィ）(Directed Self-Assembly, DSA)はブロック共重合体の自己組織化現象を利用したナノ構造構築法の一手法で次世代の微細加工技術として期待される[1]。
- ^ a b c “自己組織化リソグラフィ 〜より高性能で低コストな半導体の実現を目指して〜”. 2016年10月8日閲覧。
- ^ 木原尚子. "自己組織化リソグラフィ技術" 東芝レビュー 67.4 (2012): 44-47.
- ^ a b 生井準人, 杉田光, 日城良樹. "自己組織化材料の半導体微細パターニングへの応用" JSR テクニカルレビュー 119 (2012): 7-13.
- ^ a b c d MITとSRC、誘導自己組織化（DSA）による微細パターン形成を容易にするテンプレート設計法
[続きの解説]
「自己組織化リソグラフィ」の続きの解説一覧
- 1 自己組織化リソグラフィとは
- 2 自己組織化リソグラフィの概要
自己組織化リソグラフィ
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2017/12/22 02:13 UTC 版)
「次世代リソグラフィ」の記事における「自己組織化リソグラフィ」の解説
詳細は「自己組織化リソグラフィ」を参照 自己組織化リソグラフィは分子間相互作用の巧みな制御によって規則構造を有する分子集合体を自発的に発現させる方法で塗布・アニール・現像のみでパターンを形成できる。
※この「自己組織化リソグラフィ」の解説は、「次世代リソグラフィ」の解説の一部です。
「自己組織化リソグラフィ」を含む「次世代リソグラフィ」の記事については、「次世代リソグラフィ」の概要を参照ください。
ウィキペディア小見出し辞書の「自己組織化リソグラフィ」の項目はプログラムで機械的に意味や本文を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。 お問い合わせ。
- 自己組織化リソグラフィのページへのリンク
