Pd触媒を用いた合成法とは? わかりやすく解説

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Pd触媒を用いた合成法

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2022/03/03 23:57 UTC 版)

過酸化水素」の記事における「Pd触媒を用いた合成法」の解説

Pd(-Au)/CまたはPd(-Au)/SiO2触媒用いてハロゲン化物イオン存在下、酸性条件酸素水素直接反応させる古くは、徳山曹達(現・トクヤマ)がPd/SiO2触媒用いて高圧酸素水素反応させる過酸化水素高濃度蓄積できることを特許取得している。またデュポン同様にPd触媒を用いた合成法を特許取得している。最近では、石原らはPd-Auコロイド触媒適切に調製することにより、ほぼ100%選択性過酸化水素生成することを報告している。酸素0.5気圧水素0.5気圧混合ガス用いて、2時間反応させたところ0.4%の過酸化水素水生成したとしている。本触媒一般問題点として、酸素水素直接混合するため爆発危険性があること、過酸化水素高濃度蓄積するためには加圧が必要であること (1気圧では最高で1%2%)、生成する過酸化水素水には酸や塩が含まれることが挙げられる。 特に爆発危険性問題は重大であり、この危険性回避するため、反応速度犠牲にして水素酸素混合比爆発範囲から外す方法のほかに、酸素水素パラジウム薄膜隔てた合成法がChoudharyらにより提案されているが、パラジウム水素透過能を示すのは通常遥かに高温であり、単に膜に穴が開いていることが疑われることに加え過酸化水素生成速度極めて遅いなどの難点がある。

※この「Pd触媒を用いた合成法」の解説は、「過酸化水素」の解説の一部です。
「Pd触媒を用いた合成法」を含む「過酸化水素」の記事については、「過酸化水素」の概要を参照ください。

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