出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2022/05/11 05:23 UTC 版)
「RCA洗浄」の記事における「第２段階: 酸化物層の除去」の解説
（ベアシリコンウェハーにおいて行われることがある）第２段階は1:100または1:50のHF（フッ化水素）溶液に25 ℃で約15秒間浸漬させ、酸化物層とイオン汚染を除去する。この段階で超高純度試薬と超清浄容器を用いなければ、ベアシリコン表面は非常に反応性が高いため再汚染を引き起こしてしまう。次の段階 (SC-2) では酸化物層の溶解と再生を行う。
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