ナノインプリント・リソグラフィ
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2017/12/22 02:13 UTC 版)
「次世代リソグラフィ」の記事における「ナノインプリント・リソグラフィ」の解説
詳細は「ナノインプリント・リソグラフィ」を参照 ナノインプリント・リソグラフィはパターンをウエハーに転写する事で微細な回路を焼き付ける。位置合わせの精度が課題だが、ステッパーのような高額の設備を要しない。
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ナノインプリント・リソグラフィ
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2022/08/10 03:36 UTC 版)
「ソフトリソグラフィ」の記事における「ナノインプリント・リソグラフィ」の解説
詳細は「ナノインプリント・リソグラフィ」を参照 ナノインプリント・リソグラフィはシリコン基板上にレジストを塗布した状態で200℃まで加熱後、モールドを密着させてその後冷却する事でパターンを形成する熱ナノインプリント・リソグラフィ技術と紫外線硬化樹脂を用いる光ナノインプリント・リソグラフィ技術がある。
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