CG シリコン システム液晶とは? わかりやすく解説

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CG シリコン システム液晶

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2014/03/20 07:34 UTC 版)

システム液晶」の記事における「CG シリコン システム液晶」の解説

シャープ半導体エネルギー研究所共同開発したCG(Continuous Grain)シリコン技術作られシステム液晶1998年 シャープ半導体エネルギー研究所CGシリコン技術共同開発 通常多結晶シリコンいわゆるポリシリコン)は、基板上に高温シリコン層を形成するか、比較低温シリコン層を形成する前者はその温度故に溶融石英基板利用される液晶プロジェクタ用いられている)。後者は昔はアモルファスシリコンしか作成できなかったが、アニール技術進展により移動度の高いポリシリコン膜が得られるようになって来た(低温ポリシリコン呼ばれる)。CGシリコンは、高出力レーザによるアニールによりポリシリコン形成するのであるが、通常の低温ポリシリコンよりも大きな結晶粒を得ることができるのが特徴である。 2002年10月 シャープCGシリコン技術応用しガラス基板上にZ80CPUを再現 2002年12月 CGシリコン システム液晶を搭載したザウルスSL-C700発売開始

※この「CG シリコン システム液晶」の解説は、「システム液晶」の解説の一部です。
「CG シリコン システム液晶」を含む「システム液晶」の記事については、「システム液晶」の概要を参照ください。

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