3次元フォトニック結晶チップ

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3次元フォトニック結晶チップ

出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2021/04/07 02:42 UTC 版)

「フォトニック結晶」の記事における「3次元フォトニック結晶チップ」の解説

バイアススパッタリングの特性を利用する自己成形プロセスが日本で開発された。バルク人工誘電体であって、通過帯やバンドギャップを目的に応じて自由に設計し分ける。自由にパタン化できる特徴があり、撮像素子、光ディスクの記録再生素子、計測システム、通信デバイスなどに幅広い応用がある。産業化の初期段階に入りつつある。