イオン・エッチングとは？ わかりやすく解説

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イオンエッチング　ion etching

イオン衝撃によるスパッタ現象を利用して、試料表面のエッチングをする方法。表面の汚れを取ったり、スパッタ速度の違いを利用して凹凸のコントラストを付けるのに用いられる。

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イオンエッチング

【英】：ion etching

試料にイオンビームを照射して、格子欠陥のあるところや特定の原子を選択的に取り除く方法。試料表面の組織観察に使われる。TEM用の試料作製では選択的でない一様な薄膜化が必要とされている。イオンミリングと混同して用いられていることがある。

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