フォトリソグラフィー【photolithography】
読み方:ふぉとりそぐらふぃー
《「フォトリトグラフィー」とも》半導体集積回路などの製造工程で、シリコンのウエハー上にフォトレジストという感光材料を塗布し、レチクル(フォトマスク)とよばれる回路のパターンの原板を重ねて光を照射し、エッチングなどで刻み込む技術。光リソグラフィー。リソグラフィー。
フォトリトグラフィー【photolithography】
読み方:ふぉとりとぐらふぃー
ひかり‐リソグラフィー【光リソグラフィー】
読み方:ひかりりそぐらふぃー
《photolithography》⇒フォトリソグラフィー
フォトリソグラフィ
(photo-lithography から転送)
出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2023/01/16 07:47 UTC 版)
フォトリソグラフィ(英語: photolithography)は、感光性の物質を塗布した物質の表面を、パターン状に露光(パターン露光、像様露光などともいう)することで、露光された部分と露光されていない部分からなるパターンを生成する技術。主に、集積回路、プリント基板、印刷版、液晶ディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルなどの製造に用いられる。
- 1 フォトリソグラフィとは
- 2 フォトリソグラフィの概要
- 3 印刷版の製造
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