出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2021/08/02 03:28 UTC 版)
他の希土類を抽出除去した高純度酸化セリウムがフォトマスク、ハードディスクなどのガラス基板、多層化集積回路の層間絶縁膜平滑化に用いられている。
※この「電子部品研磨剤」の解説は、「セリウム」の解説の一部です。
「電子部品研磨剤」を含む「セリウム」の記事については、「セリウム」の概要を参照ください。
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