出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2017/05/26 03:19 UTC 版)
「Si貫通電極」の記事における「窒素による孔口の潤滑層作成」の解説
アルゴンガス中に微量の窒素を入れて、孔口付近にN2による薄い潤滑層を形成させた後、銅原子や銅イオンを滑り込ませて孔の奥まで届ける。
※この「窒素による孔口の潤滑層作成」の解説は、「Si貫通電極」の解説の一部です。
「窒素による孔口の潤滑層作成」を含む「Si貫通電極」の記事については、「Si貫通電極」の概要を参照ください。
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