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小山政俊

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2025/03/30 21:59 UTC 版)

小山 政俊(こやま まさとし)は、日本の半導体工学電気工学者大阪工業大学工学部電気電子システム工学科准教授、ナノ材料マイクロデバイス研究センター員。工学博士応用物理学会関西支部幹事。電子情報通信学会電子デバイス研究会専門委員[1]。大阪産業技術研究所・大阪商工会議所との共同推進機関OIT-P(Osaka Industrial Technology Platform; 地域産業技術プラットフォーム)のメンバー[2]

専門は、半導体工学半導体プロセス工学、パワー半導体SiCGaNGa2O3)、半導体材料工学化合物半導体GaSbInAs等、窒化物半導体GaN-HEMT等、酸化物半導体ZnO等)[3]

経歴

2004年大阪工業大学工学部電気電子システム工学科卒業。同大学大学院工学研究科電気電子工学専攻博士課程修了、工学博士住友電工デバイスイノベーションにて半導体の研究開発に従事。2015年大阪工業大学ナノ材料マイクロデバイス研究センターに着任。2017年同大学工学部電気電子システム工学科講師。2019年スイス連邦工科大学チューリッヒ校(ETHZ)海外研究派遣を経験。2022年同学科准教授、ナノ材料マイクロデバイス研究センター員。

主な所属学会は、IEEE、アメリカ物理学会(APS)、応用物理学会アメリカ材料科学学会(MRS)、日本材料学会など。

主な研究

主な国際会議での発表は、

  • 33rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2020):「Structural Analysis and Characterization of Bilayer AZO Thin Film Transistor by SolutionProcess」
  • MSR Fall Meeting 2019(ボストン):「Large-Area Chemically Synthesized Molybdenum Disulfide with Aqueous Thermolysis Method」

脚注




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