格子欠陥 観測法

格子欠陥

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2021/07/20 08:33 UTC 版)

観測法

格子欠陥を直接観測する方法としては以下がある。

電子顕微鏡
ブラッグ反射の強度変化による回折コントラストとして観測される。薄膜試料で用いられ、欠陥密度が高い場合に見ることができる。
走査プローブ顕微鏡
鋭利に尖ったプローブを用いて、原子レベルで結晶表面の格子欠陥を直接観察し、構造電子状態反応機構などを解析できる。また、格子欠陥のマニピュレーションなども可能である。 
X線回折
電子顕微鏡と同じく回折コントラストとして観測される。厚い試料で用いられ、欠陥密度の小さい場合に有効である。
光散乱
欠陥近傍での光の屈折率の変化による光散乱を観察する。
電子スピン共鳴
欠陥の不対電子による磁気共鳴の吸収を観察する。
カソードルミネッセンスフォトルミネッセンス
電流や光を欠陥に与えることで生じる発光を観察する。

研究会

格子欠陥研究を議論する研究会として、日本物理学会領域10格子欠陥・ナノ構造分科が主催する格子欠陥フォーラムが毎年行われている。

参考文献

  • 駒井謙治郎編 『機械材料学』(9版) 日本材料学会、1999年。 

関連項目


  1. ^ 角野浩二東北大名誉教授の講演”. 2021年7月20日閲覧。
  2. ^ a b 駒井、p.17
  3. ^ a b 駒井、p.16


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